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公司主营：溅射靶材,真空镀膜靶材,金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材,
深圳市众诚达应用材料科技有限公司是一家专业从事磁控溅射靶材材料研发、生产、销售于一体的高新技术企业，生产工厂位于深圳市宝安区。工厂主要生产陶瓷、金属、合金、化合物等各种溅射靶材，并为客户提供背板与帮定服务。靶材产品主要应用于薄膜太阳能、平板显示、建筑工程玻璃、光学镀膜、装饰与功能镀膜等科技领域。 公司靶材生产技术领先，生产工艺成熟，陶瓷烧结技术团队来自于台湾，从事陶瓷烧结生产40多年，掌握先进的注浆烧结工艺技术；等离子喷涂技术团队来自于中国航天科技，从事等离子喷涂技术工作已三十余年，持有多项专利技术。经过10多年的发展，公司已经建成陶瓷烧结、等离子喷涂、真空熔炼、旋转靶材帮定、水路背板等产品生产线。公司已与南开大学、武汉理工大学、华南理工大学、福州大学、深圳先进技术研究院、中国科学院等国内多家知名院所合作，致力于新材料与新工艺的研发，持续为全球客户提供各种高品质的靶材产品与服务。
主营模式：其他类型
经营范围：众诚达靶材众诚达
所在行业： >>
成立时间：
法人代表：
主营产品或服务：
主要市场：
厂房面积(平方米)：
研发人数：
是否提供OEM服务：
公司品牌：
主要客户：
主要经营地点：
注册资本：
质量控制与检测：
深圳市众诚达应用材料科技有限公司-溅射靶材,真空镀膜靶材,金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材,
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材质：金属铬规格：mm
&产品描述：&一，靶材优势：1.大规格尺寸铬锭（最大尺寸L*H460mm）可制作整片的大面积溅射靶材2.超高纯度（4N）和均匀晶粒度（100&m）3.相对同类产品，无论是那种方式生产，相对高的密实度99.3%&二，靶材特性：靶材制作工艺纯度密实度晶粒度加工规格应用CrHIP熔炼热喷涂&2N7-4N99.2%100&m平面，旋转管&依照客户图纸装饰硬质装饰光学膜热反射玻璃平板显示&常用铬靶杂质元素含量(ppm)FeSiAlCO330401228140产品可选用纯度等级2N5-3N3-4N&.&平面铬靶，由热等静压（HIP）的大锭子上线割下来的板料，经过磨床得光亮的溅射表面。&喷涂铬靶,含氧量比较低，密实度相对较高（98%的密实度），此种铬管不仅适宜于镀各种带色层，更能较好的镀白色（白度值可达80），行业内俗称白铬管。&来料检测-开锭加工-线切割下料-成品加工-产品终检-包装发货。&包装方式：真空密封产品，装放木箱运输快递。&&靶材名词释义&一，靶材定义&&&靶材----镀膜过程中基本耗材，提供成膜的原材料：成膜物质。&二，靶材物理性质:&（1）导热性；&&&&& （2）导磁性& ;&&&& （3）导电性；&&&&& （4）热胀系数;&&&&& （5）机械强度;&& （6）熔点 .&&&&&&&&&&&&&&三，靶材分类：&&&&& （1）金属靶材：Ag,Au,Al,C,Cu,Cr,Ni,Ti,SS,Si,Sn,Zr&&&&& （2）合金靶材：NiCr20,TiAl50,InSn20,SiAl30,SnZn52,MoNb,AlNd,&&&&& （3）陶瓷靶材：TiOx,ZnO,ITO,GIZO,Si3N4,NbOx,NTO&&四，靶材形状：从圆形, 方形, 管状, 环形, 三角形, 圆锥形, 到各种特性设计的靶材。&& 常用规格：&&&圆块&P100*40mm, &P60*40mm,&& 方形平板各种尺寸,&& 管状&P100*10, &P70*7&五，靶材应用不同的行业：1.记录媒体工业：&1）光数据存储：光盘；2）磁数据存储：磁头，磁盘；2.硬质装饰膜层工业；3.大面积镀膜工业；4.平板显示工业；5.光学/光通信工业；6.半导体微电子工业；&&&&
以上是靶材，磁控溅射铬靶，真空镀膜的详细介绍，包括靶材，磁控溅射铬靶，真空镀膜的价格、型号、图片、厂家等信息!
&产品描述：&一，靶材优势：1.大规格尺寸铬锭（最大尺寸L*H460mm）可制作整片的大面积溅射靶材2.超高纯度（4N）和均匀晶粒度（100&m）3.相对同类产品，无论是那种方式生产，相对高的密实...
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直流磁控溅射镀膜总是被氧化
各位大侠！本人做磁控溅射镀膜已经四五个月时间，一直坚持不懈努力着，但是每次镀出来的钛膜都是黄色的，用XRD检测发现是一氧化钛，现在离毕业时间不远了，但是自己一点成果都没有，论文都无从谈起，想请大家帮忙！不甚感激！另PS我试验中的参数
& & 基底：单晶硅（100）（纯度99.9%）
& & 背景真空度：6-8E-5pa
& & Ar流量：20sccm
& & 工作压强：0.5pa
& & 溅射功率：100、150、200、250w
& & 我的基底在实验之前分别丙酮，无水乙醇，去离子水分别超声波清洗20min，最后用吹风机吹干！
& & 我现在真是不知道自己哪出了问题，研究了很长时间了，希望有经验的大侠给我点建议，我都在崩溃的边缘了，在这么下去毕业无止境了都。跪求！
我觉得是不是Ar气体不纯，你在抽真空时有没有顺便把气瓶到腔室那段气路抽一下。预溅射时间适当延长点吧。祝福你早日成功。 : Originally posted by wtony at
我觉得是不是Ar气体不纯，你在抽真空时有没有顺便把气瓶到腔室那段气路抽一下。预溅射时间适当延长点吧。祝福你早日成功。 您好！谢谢您的鼓励！Ar瓶上显示是高纯Ae（99.999%）我曾经抽过一次，抽到E-3次方 因为是塑料管，所以只能抽到那个程度了，还有预溅射 我有时候都预溅射一个小时，结果还是被氧化。一直不知道问题在哪 这个应该和氩气纯度关系没那么大，个人觉得可能两方面：制作方面，氩气通入时间通入保持时间长一点再起辉，工作压强可以提高一点到1.5pa，溅射时间短一点，一个小时太长了，20分钟就差不多了！ 测试方面，XRD的狭缝换小一点，时间短一点，有时候X射线也可能氧化样品，可以增加其他测试手段比如拉曼光谱，电镜能谱等！另外，你的膜厚大约多少？ : Originally posted by jeffwell at
您好！谢谢您的鼓励！Ar瓶上显示是高纯Ae（99.999%）我曾经抽过一次，抽到E-3次方 因为是塑料管，所以只能抽到那个程度了，还有预溅射 我有时候都预溅射一个小时，结果还是被氧化。一直不知道问题在哪 我大概做1um的膜吧，有时候是几百个nm，总之不超过1um。请教一下XRD的狭缝变小一点是什么意思？因为我对XRD还不是会了解，只会检测一下。 : Originally posted by kissyliu at
这个应该和氩气纯度关系没那么大，个人觉得可能两方面：制作方面，氩气通入时间通入保持时间长一点再起辉，工作压强可以提高一点到1.5pa，溅射时间短一点，一个小时太长了，20分钟就差不多了！ 测试方面，XRD的狭 ... 我大概做1um的膜吧，有时候是几百个nm，总之不超过1um。请教一下XRD的狭缝变小一点是什么意思？因为我对XRD还不是会了解，只会检测一下。 XRD的影响应该不大的，如果是纯钛是比较难氧化的，我感觉是不是气路什么地方漏气了？氧化肯定有氧啊，真空度抽到-5已经很高了，只可能是充氩气的过程中有氧气进入，要么氩气不纯，要么充氩气的气路漏气，气压0.5很正常，我也是0.5左右做的，木有问题。不到1um的话四十分钟差不多了。 : Originally posted by reagan251 at
XRD的影响应该不大的，如果是纯钛是比较难氧化的，我感觉是不是气路什么地方漏气了？氧化肯定有氧啊，真空度抽到-5已经很高了，只可能是充氩气的过程中有氧气进入，要么氩气不纯，要么充氩气的气路漏气，气压0.5很 ... 我的纯钛是99.9%的，不知道这个纯度够不够？ 真空没问题，功率也OK。靶材3N也够了，要不你把Ar流量提升到40再试试，溅射时间短点，20-30min就差不多了 在镀钛之前有没有镀过其他的膜，特别是氧化物，如果有的话要把磁控溅射真空室及靶彻底清洗干净，用乙醇擦洗干净，吹干，把炉子再好好烘烤。
如果其他没问题建议买一块4N的靶材。
清洗基片时注意洗涤顺序，吹干时保持基片倾斜。
膜镀好以后不要立刻关机，继续抽一段时间真空。 : Originally posted by xjtu-sunhl at
在镀钛之前有没有镀过其他的膜，特别是氧化物，如果有的话要把磁控溅射真空室及靶彻底清洗干净，用乙醇擦洗干净，吹干，把炉子再好好烘烤。
如果其他没问题建议买一块4N的靶材。
清洗基片时注意洗涤顺序，吹干时 ... 最近一段时间，那个磁控溅射室一直我在用，别人没用过
充氩气溅射的时候发出淡蓝色发白的光，而不是紫色的光，不知道有没有问题，因为我查得资料里边氩气电离后是紫色的
还有就是我洗基片的顺序有没有问题啊？谢谢了！ 10的-5真空度已经很高了，可能是做出膜取出被氧化的。建议在表面再溅射层保护膜SiO2试试 : Originally posted by wuger11111 at
10的-5真空度已经很高了，可能是做出膜取出被氧化的。建议在表面再溅射层保护膜SiO2试试 是在溅射之前吗？还是溅射之后？ 应该不是真空度的问题，与靶材及真空室洁净度有关。 保护膜最后是肯定要溅射的，之前也可以，最后要排除保护层对膜厚的影响。还有就是做完实验最好继续抽真空，因为溅射时间太长，基片温度太高，可能在拿出基片时氧化，或者在腔室内氧化了，我猜 抽真空后，不知道你有没有对样品和靶材清洗好
还有钛在自然条件下很容易氧化的，放置一段时间就氧化了 : Originally posted by 王令111 at
抽真空后，不知道你有没有对样品和靶材清洗好
还有钛在自然条件下很容易氧化的，放置一段时间就氧化了 不知道您说的清洗好是什么意思？怎么清洗法？ 我也从事磁控溅射镀膜，只是镀膜问题太多，不知怎么能直接帮助你。镀膜很复杂，首先抽真空得彻底，然后，靶的溅射特性要清楚，才能做出纯金属。你可以问你的指导老师啊 : Originally posted by jeffwell at
不知道您说的清洗好是什么意思？怎么清洗法？ 很复杂的，我老师其实不懂这个，只是跟她认识的人有这个想法，所以她让我做。我现在碰到我提都不知道找谁。要不然就没有这么无奈了。 : Originally posted by jeffwell at
不知道您说的清洗好是什么意思？怎么清洗法？ 就是镀膜前你有没有对基底样品有没有高压清洗，还有靶材有没有先溅射清洗，这个很有可能都是污染源，还有你可以去检测下薄膜钛氧化物的含量，看有多少被氧化了
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靶材溅射的蒙特卡罗模拟
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