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直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下
直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下还有就是为什么直流磁控溅射只能用金属靶材?粘贴无效哈
我有更好的答案
这时候。譬如,对于铝靶。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率(13.56MHz)间隔加在靶上的。详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里2
这个说法不对,严重时直流溅射无法进行。直流磁控溅射只能用导电的靶材(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材)1
直流和射频是对加在靶上的电源所说的,并不局限于金属,简单的说,用射频电源的时候,里面解释的还行,有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷,不会发生靶中毒。去找本书,《薄膜科学与技术》,它的表面极易形成不导电的氧化膜层,造成靶表面电荷积累(靶中毒),就需要射频电源
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交流的贵啊,直流的便宜
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大功率磁控溅射脉冲电源具有的特点
作 者:&&&&关 注:1042&&&&发表时间: 10:12:13
&一、概述&&& 随着科学技术不断地发展,磁控溅射技术也得到了快速的发展,但在磁控溅射过程中,关键部分是脉冲磁控溅射电源,目前,磁控溅射方式分为直流磁控溅射、非平衡磁控溅射、射频磁控溅射和脉冲磁控溅射等,脉冲磁控溅射因其溅射效率高溅射工艺也高于其它磁控溅射方式而得到广泛应用,脉冲磁控溅射电源向大功率、高频化方向发展,由于开关电源的高频化使得开关电源的损耗增加,因此,我公司设计生产的大功率脉冲磁控溅射电源采用了移相式软开关技术,大大降低了电源的开关损耗,提高了电源的效率,利用输出电流保护点设置的方法,是输出电流任意调节,实现了快速反应的过流保护。高效和完善的保护措施是电源能长期可靠的运行保证,电源控制采用数字化设计,实现电源的本地控制和上位机智能化控制的目的。可任意设定输出脉冲电压幅值、脉冲周期时间及脉冲频率,以及各种工艺参数,具有在线可编程功能。&&& 电源采用脉冲单元叠加技术,将5组相互独立的单元模块串联起来,采用同步驱动技术,实现了5kV 的高压脉冲输出。可通过增减脉冲单元的数量,满足不同输出电压的需要,实现了模块化设计。&&& 该电源的性能指标为:脉冲电压幅值500V~5kV ,脉冲频率500Hz~50kHz ,脉冲占空比5%~90% ,脉冲电流幅值10~200A ,脉冲功率5~50kW。二、产品特点 :&&& 单极性脉冲磁控溅射电源是在直流磁控溅射电源基础上增加单极性正脉斩波电路组合而成,消除了由于直流反应溅射出现的靶的污染、阳极消失、极间打火等问题。该电源除具有直流磁控溅射电源的优点外,能明显改善靶面电荷积累现象,减少溅射靶表面的打火次数,提高膜层质量,适用于金属、合金及石墨等靶材镀制纯金属膜,碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。能明显性改善靶面电荷积累现象,减少溅射靶表面的打火次数,提高膜层质量。输出电压为单极性脉冲,具有平均电流稳流功能。&&& 该电源由多个相对独立的单元叠加而成,具有可靠性高、扩展性好等特点。&
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