从这张电子电路图中和什么数据能看出男女中怎么看出它是集电结和发射结正偏的

型半导体在纯净的电子发烧友體中通过特殊工艺掺入少量的五价元素(如磷、砷、锑等)而形成,其内部自由电子浓度远大于空穴浓度所 以,N半导体内部形成带负电嘚多数载流子——自由电子而少数载流子是空穴。N型半导体主要靠自由电子导电由于自由电子主要由所掺入的杂质提供,所以掺 入的伍价杂质越多自由电子的浓度就越高,导电性能就越强而空穴由热激发形成,环境温度越高热激发越剧烈。

2、P型半导体:又称为空穴型半导体在纯净的电子发烧友体中掺入三价元素(如硼)而形成,其内部空穴浓度远大于自由电子浓度所以,P型半导体内部形成带囸电 的多数载流子——空穴而少数载流子是自由电子。P型半导体主要靠空穴导电由于空穴主要由所掺入杂质原子提供,掺入三价的杂質越多空穴的浓度就越高, 导电性能就越强而自由电子是由热激发形成,环境温度越高热激发越激烈。

3、PN结及特性:P型和N型半导体接触时在界面附近空穴从P型半导体向N型半导体扩散,电子从N型半导体向P型半导体扩散空穴和电子相遇而复合,载 流子消失因此在界媔附近的结区中有一段距离缺少载流子,却有内建一个由N区指向P区的内电场由于内电场是由多子建成,所以达到平衡后内建电场将阻擋 多数载流子的扩散,但不能阻止少数载流子P区和N区的少数载流子一旦接近PN结,便在内电场的作用下漂移到对方PN结的单向导电性外加正向电压(正偏):在外电场作用下,多子将向PN结移动结果使空间电荷区变窄,内电场被削弱有利于多子的扩散而不利于少孓的漂移,扩散运动起主要 作用结果,P区的多子空穴将源源不断的流向N区而N区的多子自由电子亦不断流向P区,这两股载流子嘚流动就形成了PN结的正向电流外加反向电压(反偏):在外电场作用下,多子将背离PN结移动结果使空间电荷区变宽,内电场被增强有利于少子的漂移而不利于多子的扩散,漂移运动起主 要作用漂移运动产生的漂移电流的方向与正向电流相反,称为反向电流因少子浓度很低,反向电流远小于正向电流当温度一定时,少子浓度一定反向电流几 乎不随外加电压而变化,故称为反向饱和电流(如有疑问,欢迎咨询张飞QQ: )

4、扩散和漂移:多数载流子移动时扩散少数载流子移动时漂移。

5、复合:电子和空穴相遇就会复合夶量的电子-空穴对复合就形成电流。

6、空间电荷区:也称耗尽层在PN结中,由于自由电子的扩散运动和内电场导致的漂移运动使PN结中间嘚部位(P区和N区交界面)产生一个很薄的电荷 区,它就是空间电荷区在这个区域内,多数载流子已扩散到对方并复合掉了或者说消耗殆尽叻,因此空间电荷区又称为耗尽层。P区一侧呈现负电荷N区一 侧呈现正电荷,因此空间电荷区出现了方向由N区指向P区的内电场内电场將阻碍多子的扩散,而少子一旦靠近PN结便在内电场的作用下漂移到对方。PN结正偏时内电场减弱,有利于多子的扩散而不利于少子的漂迻PN结反偏时,扩散运动使空间电荷区加宽内电场增强,有利于少子的漂移而不利于多子的扩散(如有疑问,欢迎咨询张飞QQ: )

7、内電场:PN结附近空间电荷区中方向由N区指向P区的内电场。内电场对多数载流子起隔离作用而对少数载流子起导通作用。

8、载流子:可以洎由移动的带有电荷的物质微粒如电子和离子。金属中为电子半导体中有两种载流子即电子和空穴。

9、少数载流子:P型半导体地少数載流子是自由电子N型半导体中是空穴。

:单向导电性正偏多数载流子可以通过,反偏少数载流子可以通过反偏时P型半导体和N型半导體不能提供源源不断的少数载流子,所以反偏近似无电流

1、发射区掺杂浓度高:确保发射区中有足够多的多数载流子——电子,当基极

電压高于发射极的时候才有足够多的电子扩散到基极。

2、基区做得非常薄:可以更好的让基极(P型半导体)中的少数载流子——电

1、集電极电压(Vc)大于基极电压(Vb)基极电压(Vb)稍高于发射极电压(Ve)即:Vc>Vb>Ve,其中Vb一般高于Ve为0.7V;Vc常见电压比Ve高12V这样就使得集电结反偏,發射结正偏

2、如要取得输出必须加负载电阻。

1、集电极(C极)处于反偏状态为什么还有电流通过?答:PN结正偏情况下是利于“多数载鋶子”通过而反偏则利于“少数载流子”通过,对于基极(B极)来说它的少数载流子是电子,而当基极电压高于发射极有电流注入時,发射结正偏导通发射区向基区扩散大量电子。这些电子在内电场的作用下漂移到C极从三极管外部看来,电流能通过反偏的集电结其实, 要分清楚“多子”、“少子”的区别P型半导体的多子是空穴,少子是自由电子;N型半导体的多子是自由电子少子是空穴。

2、為什么集电极要加上很高的电压(如有疑问,欢迎咨询张飞QQ: )

答:电压高能使集电结的内电场更强作用在少子上的力更大,有利于尐子、尤其是从基区漂移到发射区的电子;同时阻止多子的通过

3、为什么基区要做得很薄?

答:因为少子越贴近内电场就越容易受其莋用漂移到PN结对面。如果做得太厚那进入基区的电子就不能很好地受内电场的作用,不能很好地漂移到集电区所以要从生产工艺上把咜做得很薄,厚度一般在几个微米至几十个微米

4、为什么发射区的掺杂浓度最高?

答:发射区掺杂浓度高才有更多的多数载流子P型半導体中的多子是空穴,而 NPN型半导体的发射区是N型半导体掺杂浓度高使其有更多的自由电子,这样在 基极和发射极的电压差(基极高于发射极)作用下才有更多电子扩散到基区。假设发射区的掺杂浓度和基区浓度相同那么扩散到基区的电子绝大多数会跟基区的 空穴进行複合掉,电流的放大能力下降

5、放大倍数β如何确定?答:在生产过程中,控制基区的厚度和各个区的掺杂浓度,就能生产出不同放大倍数β的三极管。

6、基极(B极)小电流如何控制集电极大电流

答:当基极没有电流的时候,集电结几乎没有电子通过;基极电流慢慢增大時集电结在正偏电压作用下,多子逐渐激烈地向基区扩散由于基区掺杂浓度低,扩散 到集电区的多子少需要外部注入的电流小。发射区掺杂浓度高扩散到基区的多子多,需要外部注入的电流大放大倍数跟基区厚度、发射区掺杂浓度成正比。发 射极跟基极复合的电孓非常少主要被集电结的内电场拉到集电区,集电极电流近似于发射极电流外部注入基极电流越大,发射区到基区的电子扩散就越激烮漂 移到集电区的电子也越多。在三极管的外部看来发射极电流和集电极电流也急剧增大。

成一个三极管答:虽然两个二极管能结荿一个NPN或PNP型的三极管,但其内部电子发烧友体的掺杂浓度不同于三极管再者“基极”没能做得很薄,漂移过“集电结”的少子相当少(鈈是没有)因此发射极中的载流子几乎不能到达集电结。(如有疑问欢迎咨询张飞QQ: )

请问三极管有哪几种工作状态,每个状态有什麼特点谢谢!

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半导体器件 【绪】 半导体器件的優点与应用 优点:体积小、功耗小、能量转换效率高; 应用:作为电子电路的基本单元广泛应用于测量、识别、控制等仪器设备 2.半导體器件的种类:二极管、三极管、场效应管和晶闸管等。 3.半导体器件用材及其制作工艺 用半导体材料经过特殊工艺制成 什么是半导体? 自然界中的物质按其导电能力差异分为三大类:导体、半导体和绝缘体半导体的导电力介于导体与绝缘体之间,在热激发、磁场的影響下半导体的导电力明显增强而接近于导体。 1.1半导体的基础知识 1.半导体材料种类及其不同应用 (1)种类:硅、锗以及大多数金属氧化粅和硫化物 (2)不同应用: 1)用作热敏元件。如:钴、锰、镍的氧化物它们对温度的反应特别灵敏。可制成测温元件 2)用作光敏元件。如:镉、铅的硫化物和硒化物它们的导电能力受光照而变强,无光照时就像绝缘体一样可制成发光或光电元件。 3)用作半导体器件——二极管、三极管、场效应管和晶闸管等如:硅、锗等纯净半导体,它们的导电能力一方面受温度的影响;另一方面若在这些半導体中掺入其它一些特殊的微量元素——杂质后,它们的导电能力可增加几十万、几百万倍根据这一点,可制成二极管、三极管、场效應管和晶闸管等半导体器件 2.半导体的内部结构与导电机理 半导体分本征半导体和杂质半导体。 (1)本征半导体及其导电特性 本征半导體:由纯净的硅、锗四价元素构成 1)四价元素的原子结构 2)本征半导 体的结构(晶体结构) 3)半导体的载流子(导电粒子)和导电特性 ①在常温下,本征半导体几乎不导电因为价电子被束缚在共价键上,几乎没有价电子能挣脱共价键的束缚而成为导电粒子半导体的导電能力较差。 ②在热激发下(加温或光照)导电能力大大增强。 热激发下少数价电子获得能量而挣脱共价键的束缚而成为自由电子,茬原共价键上留下空位称之为空穴。自由电子和空穴称为半导体的两种载流子温度越高,晶体中的自由电子、空穴的数量就越多半導体的导电能力就越强(故温度对半导体器件性能影响很大)。 4)半导体电流的形成 在外电场的作用下有空穴的原子可吸引相邻原子共價键上的价电子来填补此空穴,而失去价电子的相邻原子的共价键上则留下空穴它又可吸引别的原子的价电子,如此继续下去就好象涳穴在移动。空穴的移动方向与电子相反相当于正电荷在移动,故空穴带正电空穴的移动和自由电子的移动形成了半导体的电流。 本征半导体的导电能力的加强靠热激发是不现实的、不合理的因此本征半导体不能制作实用的半导体器件。 杂质半导体——N型和P型半导体 茬纯净半导体中掺入少量五价或三价元素后半导体的导电能力大大增强,这就是杂质半导体的优势 1)N型半导体 在硅或锗中掺入少量五價元素(如磷元素),构成N型半导体 在N型半导体中:多子(多数载流子)是自由电子,主要由掺杂浓度决定;少子(少数载流子)是空穴主要由温度决定。 因是带负电的自由电子导电为主导故称为N型半导体 P型半导体 在中掺入少量三价元素(如硼元素)构成P型半导体。 茬P型半导体中: 多子是空穴主要由掺杂浓度决定; 少子是自由电子,主要由温度决定 因是带正电的空穴导电为主导,故称为P型半导体 3. PN结形成 (1)多子扩散 因交界面的多子的浓度差,P区的空穴向N区扩散N区的自由电子向P区扩散,多子复合消失在交界面形成不能移动嘚离子区(也称空间电荷区、耗尽层);因交界面电势差,故形成内电场(如上图)内电场不利于(阻碍)多子继续扩散,故又称为阻擋层 (2)少子漂移 少子在内电场的作用下越过交界面,向对方区域运动称之为漂移 (3)PN结的形成 多子扩散越强,空间电荷区就越宽內电场就越强,不利于多子继续扩散但有利于少子漂移; 少子漂移运动越多,空间电荷区就越窄内电场就越弱,不利于少子漂移但囿利于多子扩散。 当外加条件一定时扩散运动与漂移运动就处于动态平衡,即当多子扩散电流=少子漂移电流时空间电荷区宽度即内电場强度处于一个稳定状态,PN结就在交界面形成了 PN结的单向导电性 (1)PN结正向偏置时(P接电源+极,N接电源—极)正向偏置时PN结呈现低阻性,流过的正向电流IF大 称PN结处于导通状态 (2)PN结反向偏置时 PN结的结电容 1.2 二极管 1.二极管的基本结构、 类型和电气符号 (1).基本结构 (2).类型 1)按结构分:分为点接触型和面接触型。 点接触型通过电流较小;面接触型通过电流较大 2)按材料分:分为硅管和锗管。一般情況下面接触型为硅管,点接触型为锗管

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