芳香化合物的化合物在红外光谱中图特征频率?

理论上是在1100左右是一个宽而强嘚峰,但是实际做实验的时候要综合考虑了,以二氧化硅为例它的除了1100,还在790~800,470左右出峰。

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想请教一下吸附实验中化合物在红外光谱中强度的问题···谢谢
我在做吸附实驗,吸附前后吸附剂的红外谱图各峰的位置都没变,只是强度都变小了,这能说明什么问题吗,不是所有的峰--而是只有其中的几个峰的强度减小了,那该怎么解释啊,大侠

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很显然是吸附作用使化学键的强度发生了变化,进而影响了特征峰的强度
那可以说是官能团间的反应造成的吗谢谢
如果能确定吸附和它的官能团有关的话应该可以

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